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(반도체 CMP Slurry)
제품소개
About Product
ACESOL
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포장단위
ACESOL
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(반도체 CMP Slurry)
(주)에이스나노켐은 고객의 이익을 먼저 생각하고 기업의 가치를 추구하겠습니다.
Name
Contents
Dilution
pH
Remark
ACESOL1280
12%
RTU
11.0
ILD, IMD, STI, BUFFING
ACESOL2580
25%
1 : 1
11.0
ILD, IMD, STI, BUFFING
ACESOL3300
33%
1 : 2
10.8
High RR, high diluted & low POU price
특징
DIW & Abrasive로 구성
Raw material: Sodium silicate (Na
2
O·3SiO
2
)
Process: Liquid Phase
Particle: Unique particle
Merit: Low scratch and low CoO
Application
Oxide CMP polishing slurry
Process: ILD, IMD , STI CMP
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개인정보처리방침
업체명 :
(주)에이스나노켐
대표 : 이종훈
영천공장(본사) : 경상북도 영천시 금호읍 영천산단로 217,229 Tel.054-334-6240 Fax.054-334-6849
경산공장(CMP연구소) : 경상북도 경산시 자인면 자인공단로33 Tel.053-857-6240 Fax.053-856-6849
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